左写真はテーブルトップタイプのスパッタ装置
単純真空蒸着装置での成膜方法、
プラズマを用いたイオンプレーティング法による金属間化合物TiN膜・CrN膜・TiALN膜等の成膜方法、
イオンアシスト(IAD法)を用いたY2O3膜の成膜方法などをご指導が可能です。
TiN膜 CrN膜 TiAlN膜 Y2O3膜等
真空装置の取り扱い等
真空蒸着法に関するコンサルタントサービス
眞空蒸着での多くの膜種の提案
眞空蒸着法での窒化物、炭化物等
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