イオンプレーティング

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NASA(D・M マトックスさん)から誕生したイオンプレーティング法

*真空表面改質のお手伝いができます。

EB法(エレクトロンビーム)による高周波(RF)イオンプレーティングや、

ARE法(activate reactive evaporation)によるイオンプレーティング。

また、HCD法(ホロカソードディスチャージ)、AIP法(アークイオンプレーティング、イオンアシスト法(イオンガンによるプラズマ照射)、スパッタ法にはUBMのアンバランスマグネトロン、DCプロセス、高周波スパッタ法(酸化物などが成膜できる)、CVD法(9001100℃で成膜するケミカルヴェーパーディポジション)、PCVD法(プラズマを使って低温でのCVD法)、抵抗加熱方式など全てのドライコーティングをお引き受けいたします。

上記の真空プロセスを使って下記のような多くの金属間化合物を形成する事とができます。

TiN膜(チタンの窒化物で黄色を呈している。)は既に多くの分野で応用されている。金属用のドリルや

木工用のドリルにコーティングして、切れ味の改善やドリル自体の寿命を長くする事ができる。そして色合いから装飾用として金属製のメガネフレームや、時計ケース、金属製の時計バンドなどにも応用されてキズが付きにくく、汚れが付きにくく、手入れが簡単である。

これらの表面改質法をイオンプレーティング法と言って、宇宙開発(元々は、宇宙開発の一環としてイオンプレーティング法は開発されました。)用にNASADMマトックスさんが考案され、大気圏外での摺動性(油などは使えない)を確保するため金(Au)メッキを施していたが、密着性が悪いため金メッキが剥がれて摺動性が確保できない状況があった。

そこで考案されたのが、またARE法(activeit reactive evaporation)と言って1970年ごろ

RFバンシャさんらが世界に広めっていった。

そして、日本での国際真空会議があってマトックスさんが講演されて日本での引き金となって、大学、研究所などで盛んに研究されて多くの学会で発表されて、鍍金の業界を脅かすようになっている。

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